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應(yīng)用場景產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于軍工復(fù)合材料用基礎(chǔ)材料、陶瓷、水性無機高分子涂料、耐高溫防火涂料、環(huán)保催化劑產(chǎn)品、精密鑄造、膠體蓄電池、造紙、紡織行業(yè)等等。
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拋光工藝的影響
2019-01-15
?、贉囟龋簻囟壬?，加強了拋光液化學(xué)反應(yīng)能力，拋光速率增加。但過高的溫度會引起拋光
液的揮發(fā)，以及加快化學(xué)反應(yīng)，表面腐蝕嚴(yán)重，因而會產(chǎn)生不均勻的拋光效果，使拋光質(zhì)量下
降。
?、趐H值：拋光液的pH值越高，堿性越強，反應(yīng)速率越快。但pH值對被拋表面刻蝕、磨料的分
解與溶解度、拋光液的穩(wěn)定性有很大的影響，從而影響材料的去除率和表面質(zhì)量，因此應(yīng)嚴(yán)格
控制。
?、蹓毫Γ阂话愕?，壓力越大，拋光速率越快。但是壓力足夠大時，拋光速率會略微下降，原
因是壓力大，拋光墊承載拋光液能力下降。另外，壓力大易形成破片現(xiàn)象。
?、苻D(zhuǎn)速：轉(zhuǎn)速增加，會引起拋光速率增加。但轉(zhuǎn)速過高又會使拋光液在拋光墊上分布不均
勻，影響拋光質(zhì)量。
⑤拋光液濃度：拋光液的濃度增加時，去除率也隨之增加，但當(dāng)磨粒濃度超過某一值時，材
料去除率將停止增加，維持一個常數(shù)值，這種現(xiàn)象稱為去除飽和。而且過高的濃度，有可能造
成表面缺陷(劃痕)增加，影響表面質(zhì)量。
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